計測システムレーザー式ウェハ表面欠陥検査装置 Laser Explorer

半導体基板表面に高出力レーザーを照射することで、スクラッチ、ピットなどの微細な表面欠陥を検出し、欠陥種類ごとに分類、結果表示します。
1カセット(25枚)を約40分(4インチ 10umピッチ)で検査します。

reiya-17 reiya-17

特長

  1. 高出力レーザーによる微小欠陥の検出
  2. 欠陥の凹凸を弁別
  3. 0.1、0.2、0.3um のPSL欠陥弁別が可能
    (SiC 透明ウェハ)
  4. 全数オートフォーカス+たわみ追従機能
  5. 優れたコストパフォーマンス
  6. カスタマイズ対応(ソフト仕様、カセット数など)
  7. カセット to カセット自動検査対応

  • 概要
  • 詳細・オプション
  • 主仕様表

■ 欠陥MAP

・種類毎に色分け表示
欠陥MAP

 

■ 欠陥種別グラフ

・種類ごとに個数表示

 

■ 欠陥リスト

・欠陥座標、サイズ表示(CSVファイル出力対応)

欠陥リスト

 

■ 欠陥サイズ分類

・信号(散乱、反射、位相シフト)強度、欠陥サイズによるランク分け(最大10ランク)

欠陥サイズ分類

■ 欠陥抽出例 (GaN-ONサファイア基板)

顧客が抽出したい欠陥をヒヤリングして、抽出ソフトをカスタマイズした事例

 

スクラッチ

スクラッチ欠陥MAP

欠陥MAP

輝度画像

 

ヒラック

ヒラック欠陥MAP

欠陥MAP

ヒラック輝度画像

輝度画像

ドロップレット

ドロップレット欠陥MAP

欠陥MAP

ドロップレット輝度画像

輝度画像

検出

方式

散乱、反射、位相シフト

欠陥

パーティクル、スクラッチ、ピット、ヒラック、ドロップレットなど

対象基板

種類

サファイア、GaN on サファイア、GaN on Si、LT、など

サイズ

2″、4″ 、6″、別途相談に応じます

検査時間/面

走査時間

約63秒(4″、10umピッチ)

演算時間

約27秒(同上)

レーザー

波長/数

405nm/3本

検査ピッチ

5~30um

スピンドル

チャック方式

裏面全面真空吸着
裏面外周真空吸着

回転数 5,000RPM
外形

1360(W)×950(D) ×2000(H)