精密機器事業
ユニット
製品一覧製品一覧
製品カテゴリー
ハイブリット型表面欠陥検査装置

K-HB-G100

レーザー式で高速に全面検査し、検出した欠陥部位だけ顕微鏡式で撮影し欠陥種類の分析が可能。
レーザー式検査で検出した欠陥のうち、気になる欠陥だけ顕微鏡でリアルタイム観察することが可能。
SiC、GaN、LT、サファイアなどの透明体検査や、SiC/Si、Gan/Siなどの膜検査などに最適。

特徴・機能

「高速検査」「微小欠陥検出能力」の面で優れるレーザー式検査装置と「顕微鏡画像取得」「欠陥サイズ判定」などの欠陥分析の面で優れる顕微鏡式検査装置との両方を併せ持つ、ハイブリット型の表面欠陥検査装置です。
レーザー式、顕微鏡式の両方の検査部を組み込んでおり、複合機能による検査・観察が可能であり、それぞれ単体の検査装置として使用することも可能です。

欠陥MAP

種類毎に色分け表示

欠陥MAP

欠陥種別グラフ

種類ごとに個数表示

欠陥種別グラフ

欠陥リスト

欠陥座標、サイズ表示(CSVファイル出力対応)

欠陥リスト

欠陥サイズ分類(レーザー式)

信号(散乱、反射、位相シフト)強度、欠陥サイズによるランク分け
(最大10ランク)

欠陥サイズ分類(レーザー式)

輝度画像表示(レーザー式)

輝度画像表示(レーザー式)

欠陥画像表示(顕微鏡式)

欠陥画像表示(顕微鏡式)

複合機能使用例(アルバム機能)

レーザー式で検出した欠陥をレーザー式のビューア画面から顕微鏡画像をリアルタイム観察できます。

複合機能使用例(アルバム機能)

複合機能使用例(アルバム機能)

レーザー式で検出し、条件設定した欠陥の顕微鏡画像をアルバム状に保存できます。
※上段:欠陥No、種別
※下段:Abs_X:X座標、Abs_Y:Y座標、Pix:欠陥Pixサイズ

複合機能使用例(アルバム機能)

レーザー式と顕微鏡式の比較(当社製品)

レーザー式と顕微鏡式の比較(当社製品)

クボタの半導体検査装置

オプション

ケガキ機能(レーザー式)

検出した欠陥近傍にケガキを入れます。(スタンプ方式も可)欠陥からの距離、ケガキ線の長さを調整できます。
※レーザ式検出CHや顕微鏡式対物レンズ倍率等、ご要望に応じて標準仕様外のオプションもフレキシブルに対応検討いたします。

ケガキ機能(レーザー式)

主仕様表

レーザー式検査部

検出方式レーザー散乱方式および正反射方式
欠陥パーティクル、スクラッチ、ピット、バンプなど
対象基板種類Si、SiC、LT、LN、サファイア、SiC/Siなど
サイズ4inch 、6inch、8inch、別途相談に応じます
検査時間/面走査時間約91秒(6inch、10umピッチ)
レーザー波長405nm
検査ピッチ5~30um
スピンドルチャック方式裏面全面真空吸着
裏面外周真空吸着
回転数5,000RPM

顕微鏡式検査部

検出方式微分干渉顕微鏡を用いた画像解析方式
欠陥凹欠陥、凸欠陥、パーティクル、スクラッチなど
対象基板種類Si、SiC、LT、LN、サファイア、SiC/Siなど
サイズ4inch 、6inch、8inch、別途相談に応じます
光学系仕様検出器微分干渉顕微鏡+CMOSカメラ
対物レンズ5倍、10倍
光源高輝度LED照明
検査時間/面検査時間6分以下/6inch (搬送時間を含まない画像取得時間)

設置準備

項目内容
電源単相200V 30A
単相100V 30A
エア供給圧力 0.65 ± 0.05MPa
流量 150NI/min以上
配管接続口 Φ10㎜

消耗部品

項目内容(標準交換時間)
青紫レーザーレーザー式用(1万時間)
照明顕微鏡式用(4万時間)
この製品に関する問い合わせ・資料