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レビュー機能付きウェハ表面欠陥検査装置

K-LE-G200

高速検査(約181秒/12inch )
レビュー用顕微鏡を搭載
顕微鏡はレーザー顕微鏡/微分干渉顕微鏡のどちらか選択可能
SEM等での分析用に顕微鏡を利用した高精度なマーキングが可能
Siウェハ上の0.04umのPSL検出が可能(オプション)

特徴・機能

「高速検査」「微小欠陥検出能力」の面で優れるレーザー式検査装置と「顕微鏡画像取得」「欠陥サイズ判定」などの欠陥分析の面で優れる画像式検査装置との両方を併せ持つ、ハイブリット型の表面欠陥検査装置です。
レーザー式、画像式の両方の検査部を組み込んでおり、複合機能による検査・観察が可能であり、それぞれ単体の検査装置として使用することも可能です。

欠陥MAP

種類毎に色分け表示

欠陥MAP

欠陥種別グラフ

種類ごとに個数表示

欠陥種別グラフ

欠陥リスト

欠陥座標、サイズ表示(CSVファイル出力対応)

欠陥リスト

欠陥サイズ分類(レーザー式)

信号(散乱、反射、位相シフト)強度、欠陥サイズによるランク分け(最大10ランク)

欠陥サイズ分類(レーザー式)

輝度画像表示(レーザー式)

輝度画像表示(レーザー式)

顕微鏡観察画像

顕微鏡観察画像

レーザー顕微鏡機能による欠陥解析

レーザー共焦点、フォーカスバリエーションモードによる観察・プロファイル解析が可能です。
レーザー顕微鏡への機能追加:白色干渉モード
数nmの高さ計測が可能な白色干渉モードでの解析が可能です。

レーザー顕微鏡機能による欠陥解析

クボタの半導体検査装置

主仕様表

検出方式レーザー散乱方式および正反射方式
検出サイズPSL50nm相当の欠陥(オプションでPSL40nm相当)
レビュー機能顕微鏡レーザー共焦点・白色干渉・フォーカスバリエーション
対象基板種類透明体を含む各種基板
サイズ2~12inch、形状など別途相談に応じます
装置サイズ外形寸法W1,800 x D2,100 x H1,985 (mm)
質量約1,200kg

自動搬送機能を除き、検査に必要なミニマム仕様版のリーズナブルな装置にも対応いたします。

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