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顕微鏡式ウェハ表面欠陥検査装置

K-IM-G100

独自の画像処理技術による欠陥抽出・弁別機能
欠陥を観察しながら高精度なマーキングが可能
他装置で検査したウェハに対し、欠陥座標を元に観察、欠陥アルバムの作成が可能。

特徴・機能

微分干渉顕微鏡を搭載した表面欠陥検査装置で透明体材料にも適用しております。 全面検査による欠陥マップ出力や検出した欠陥の顕微鏡観察が可能な装置です。

欠陥MAP

種類毎に色分け表示

欠陥MAP

欠陥種別グラフ

種類ごとに個数表示

欠陥種別グラフ

欠陥リスト

欠陥座標、サイズ表示(CSVファイル出力対応)

欠陥リスト

顕微鏡観察画像

顕微鏡観察画像

クボタの半導体検査装置

マーキング機能

検出した欠陥近傍にマーキングを入れます。
圧痕方式、ライン方式、インク方式から選択が可能です。
顕微鏡を使用した高精度マーキングが可能です。

主仕様表

検出方式微分干渉顕微鏡を用いた画像解析方式
検出サイズ0.3um(対物レンズ10倍使用時)
対象基板種類透明体を含む各種基板
サイズ4inch 、6inch、8inch、別途相談に応じます
装置サイズ外形寸法W1,700 x D1,000 x H1,935 (mm)
質量約800kg

自動搬送機能を除き、検査に必要なミニマム仕様版のリーズナブルな装置にも対応いたします。

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